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J-GLOBAL ID：200903064000496786

磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録再生装置

Inventor：
山本 尚之

About 山本 尚之

, 
櫻井 正敏

About 櫻井 正敏

, 
鎌田 芳幸

About 鎌田 芳幸


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (6)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004183933
Publication number (International publication number)：2006012216
Application date： Jun. 22, 2004
Publication date： Jan. 12, 2006
Summary：
【課題】その電磁変換特性を損なうことなく容易に磁気記録層をパターニングした磁気記録媒体を得る。【解決手段】磁気記録層とフォトレジストとの間にシリコン系保護膜を形成して、ドライエッチング、及び酸素プラズマ処理に供する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
非磁性基板、該非磁性基板上に設けられ、トラック形状またはドット形状にパターン加工された磁気記録層、及び該磁気記録層表面のうち少なくとも該非磁性基板と反対側の表面上に形成されたシリコン系保護層を具備することを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (4)：
G11B 5/72 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/851
FI (5)：
G11B5/72 ,  G11B5/65 ,  G11B5/84 B ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/851
F-Term (15)：
5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006AA06 ,  5D006BB02 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BB05 ,  5D112BC04 ,  5D112BC05 ,  5D112GA20 ,  5D112GA22
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特開平3-142707号公報
Cited by examiner (5)
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