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J-GLOBAL ID：200903064083414662

化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 山口 訓史 ,  山本 敏 ,  安藤 信雄
Applicant, Patent owner： 住友化学株式会社
Agent (1)： 中山 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007315582
Publication number (International publication number)：2008165218
Application date： Dec. 06, 2007
Publication date： Jul. 17, 2008
Summary：

【課題】優れた解像度を示し、かつ、優れたラインエッジラフネスを与える化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表されるオニウム塩と、式(II)で表されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(I)で表されるオニウム塩と、式(II)で表されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (11)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-037622   Applicant：住友化学株式会社