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J-GLOBAL ID:200903064264029035
水処理装置及び水処理方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002085958
Publication number (International publication number):2003275785
Application date: Mar. 26, 2002
Publication date: Sep. 30, 2003
Summary:
【要約】【課題】 空気を槽内に送り込む曝気槽を用いた排水の微生物処理において、微生物の活性を高めることによって処理の効率を高める。【解決手段】 空気ブロア2から送られた空気を曝気槽4に送り、前記曝気槽4内の水を微生物処理する水処理装置である。水処理装置は、マイナスイオン発生体24が充填され、前記空気が通過するイオン発生室10を備えたイオン発生装置3を前記空気ブロア2と前記曝気槽4との間に備えている。
Claim (excerpt):
空気ブロアから送られた空気を曝気槽に送り、該曝気槽内の水を微生物処理する水処理装置であって、マイナスイオン発生体が充填され、前記空気が通過するイオン発生室を備えたイオン発生装置を前記空気ブロアと前記曝気槽との間に有することを特徴とする、水処理装置。
F-Term (3):
4D028AB03
, 4D028BC24
, 4D028BD06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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汚水浄化システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-097310
Applicant:中家正行
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赤外線放射材料の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-183223
Applicant:大根彬豪, 日比野史夫, 林二郎
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表面にトルマリンを有するセラミック成形体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-042148
Applicant:株式会社イナックス
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