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J-GLOBAL ID：200903064301920125

洗浄装置

Inventor： 隈部 一正
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 山口 邦夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993207685
Publication number (International publication number)：1995066165
Application date： Aug. 23, 1993
Publication date： Mar. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】洗浄室内に供給される空気から金属汚染物質を除去する。【構成】洗浄室11の天井にクリーンユニット12が吊り下げられている。このクリーンユニット12は、ケミカルフィルタ24とULPAフィルタ25が積層されている。ケミカルフィルタ24では、空気中の金属汚染物質が除去され、ULPAフィルタ25では0.05〜0.1μmのダストが除去される。この洗浄装置内で例えばウエハーなどの洗浄を行なえば、粉塵や金属汚染物質が付着するようなことがないので、これを用いた半導体の歩留まりが向上するようになる。

Claim (excerpt)：

洗浄作業を行なうための略密閉された空間を形成する洗浄室と、周囲の空気を清浄化して上記洗浄室内に供給するクリーンユニットと、上記洗浄室内の空気を外部に排出する排気ダクトとを有する洗浄装置において、空気中の粉塵を除去するためのエアフィルタと、上記エアフィルタを通過する金属汚染物質を除去するためのケミカルフィルタとが、上記クリーンユニット内に積層されていることを特徴とする洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/02 ,  B01D 46/52

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-209722
  
• 空気洗浄方法および高純度シリコンフイルター
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-217340   Applicant：富士通株式会社
• 特開昭63-209722