露光条件及び投影光学系の収差測定方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：丸島儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994209800
Publication number (International publication number)：1996078307
Application date： Sep. 02, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】高精度および高速にレジストの種類に対応した最適露光条件を測定する方法及び投影光学系の収差を測定する方法を提供することを目的とする。【構成】パターンを互いに異なる露光条件で感光基盤上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、前記複数の感光パターンを撮像する工程と、前記撮像工程によって得られる画像信号から前記各感光パターンの周波数成分を算出する工程と、前記各感光パターンの周波数成分のに基づいて前記パターンを前記感光基盤に転写する際の最適露光条件を決定する工程とを有する。

Claim (excerpt)：

パターンを互いに異なる露光条件で感光基盤上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、前記複数の感光パターンを撮像する工程と、前記撮像工程によって得られる画像信号から前記各感光パターンの周波数成分を算出する工程と、前記各感光パターンの周波数成分のに基づいて前記パターンを前記感光基盤に転写する際の最適露光条件を決定する工程とを有することを特徴とする露光条件測定方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03B 27/72 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 516 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-082012
特開平4-001504
特開平4-023422

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