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J-GLOBAL ID：200903064387979356

光学材料用重合体の製造方法

Inventor：
姜 健

About 姜 健

, 
上坂 昌久

About 上坂 昌久


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 大谷 保
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002114774
Publication number (International publication number)：2002348349
Application date： Apr. 18, 1997
Publication date： Dec. 04, 2002
Summary：
【要約】【課題】 光学特性に優れる光学材料用重合体の原料として有用なポリチオールオリゴマーを効率よく製造する方法で得られたポリチオールオリゴマーを原料とする、光学特性に優れる光学材料用重合体の製造方法を提供する。【解決手段】 塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリチオールとイオウとを反応させて、ジスルフィド結合を有するポリチオールオリゴマーを製造し、得られたポリチオールオリゴマーとポリ(チオ)イソシアネート基含有化合物および/または多官能ビニル基含有化合物とを共重合させる光学材料用重合体の製造方法である。
Claim (excerpt)：
ポリチオール基含有化合物とポリ(チオ)イソシアネート基含有化合物および/または多官能ビニル基含有化合物とを共重合させる光学材料用重合体の製造方法であって、前記ポリチオール基含有化合物が、アンモニアまたはアミンからなる塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリチオールとイオウとを反応させて得られるレンズ原料用ポリチオールオリゴマーであり、前記二官能以上のポリチオールとイオウとのモル比が1:0.1〜1:0.95であり、前記二官能以上のポリチオールが、2,5-ジメルカプトメチル-1,4-ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリスメルカプトアセテート、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール、1,2-(ジメルカプトエチルチオ)-3-メルカプトプロパン、1,2-ビス-2-(メルカプトエチルチオ)-3-メルカプトプロパン、1,2,3-トリメルカプトプロパン、ビス(2-メルカプトエチル)スルフィド、ベンゼンジチオール、ベンゼントリチオール、トリレンジチオール及びキシリレンジチオールの中から選ばれる少なくとも1種である光学材料用重合体の製造方法。
IPC (3)：
C08G 18/38 ,  C08G 75/04 ,  G02B 1/04
FI (3)：
C08G 18/38 Z ,  C08G 75/04 ,  G02B 1/04
F-Term (32)：
4J030BA05 ,  4J030BB07 ,  4J030BF19 ,  4J030BG25 ,  4J034BA02 ,  4J034CA32 ,  4J034CB03 ,  4J034CC29 ,  4J034CC39 ,  4J034CC45 ,  4J034CC62 ,  4J034CC65 ,  4J034CC66 ,  4J034CC67 ,  4J034CC68 ,  4J034CC69 ,  4J034CD08 ,  4J034HA07 ,  4J034HA08 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC25 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034LA13 ,  4J034RA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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