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J-GLOBAL ID：200903064415388695

気孔を有する反射防止膜とその製法

Inventor： 内田 恭敬
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000088609
Publication number (International publication number)：2001272506
Application date： Mar. 24, 2000
Publication date： Oct. 05, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 紫外から可視光領域でも効率よく反射を防止するために、この波長領域で1.25程度の屈折率をもつ理想的な材料の開発。【解決手段】 シリカ膜中に含まれる気孔の濃度によって屈折率を制御した反射防止膜。CVD法を用いて低温でアルキル基を含む膜を気相で堆積する方法、スピンコート法を用いてアルキル基を含むシリカ膜を液相で堆積する方法などで形成した膜からその後の熱処理によりアルキル基を脱離して10nm未満の大きさの微細な気孔を生じさせる。

Claim (excerpt)：

基体上に形成されたシリカ膜中に含まれるアルキル基成分の脱離により生じた気孔を有することを特徴とする反射防止膜。

IPC (8)：

G02B 1/11 ,  B32B 5/18 ,  B32B 9/00 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/56 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (8)：

B32B 5/18 ,  B32B 9/00 A ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/56 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 574

F-Term (29)：

2H025DA34 ,  2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD12 ,  4F100AA20B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DC11B ,  4F100DJ00B ,  4F100EH662 ,  4F100EJ022 ,  4F100EJ422 ,  4F100GB41 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030BA29 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA09 ,  4K030FA10 ,  5F046PA03 ,  5F046PA12