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J-GLOBAL ID：200903064417651806

プラズマ処理装置

Inventor： 竹谷 元伸 ,  福田 航一 ,  大見 忠弘
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック ,  大見 忠弘
Agent (1)： 志賀 正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998225048
Publication number (International publication number)：2000058294
Application date： Aug. 07, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 チャンバー内に反応ガスを均一に供給するとともに、シャワープレート間でのプラズマ放電を防止し得るプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 チャンバー2に設けられたガス導入ポート20とチャンバー2内部のプラズマ発生空間6との間に、反応ガスをプラズマ発生空間6に拡散させるための多数の孔を有する2段のシャワープレート17、18が設けられている。上流側の1段目シャワープレート17は、下流側の2段目シャワープレート18との間の空間23に反応ガスを均一に拡散させる機能を果たし、2段目シャワープレート18はプラズマ発生空間6に対して反応ガスを均一に拡散させる機能を果たしている。

Claim (excerpt)：

チャンバーに設けられた反応ガス導入口と前記チャンバー内部のプラズマ発生空間との間に、反応ガスを前記プラズマ発生空間に拡散させるための多数の孔を有する少なくとも2段のシャワープレートが設けられたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (7)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/44 D ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

F-Term (25)：

4K030AA06 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030JA07 ,  4K057DA11 ,  4K057DM29 ,  4K057DM37 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB14 ,  5F004BC08 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F045AA09 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EH02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-294498   Applicant：三菱電機株式会社, 旭硝子株式会社
• 特開昭60-046029