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J-GLOBAL ID:200903064449057442
膜厚監視方法および膜厚監視装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
飯阪 泰雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004261815
Publication number (International publication number):2006078302
Application date: Sep. 09, 2004
Publication date: Mar. 23, 2006
Summary:
【課題】 水晶振動子の周波数温度特性を改善し、低レート成膜にも十分に対応できる膜厚監視方法および膜厚監視装置を提供する。【解決手段】 センサヘッド5に保持された水晶振動子の表面に成膜材料を付着させ、この成膜材料の堆積による水晶振動子の共振周波数の変化量を測定し、被処理基板W上に堆積される成膜材料の膜厚を監視する膜厚監視方法において、センサヘッド5の温度が80°Cを超えるまでは、水晶振動子10の冷却処理を行わないようにする。また、水晶振動子10としては、室温から80°C付近までにおける温度ドリフトが20ppm以下の水晶基板を用いる。これにより、室温から80°C付近までの温度範囲における共振周波数の温度ドリフトを微量に抑制し、高精度な膜厚監視および成膜レートの制御を実現できるとともに、数Å/s程度の低レート成膜にも十分に対応可能となる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
センサヘッドに保持された水晶振動子の表面に成膜材料を付着させ、この成膜材料の堆積による前記水晶振動子の共振周波数の変化量を測定し、被処理基板上に堆積した前記成膜材料の膜厚を監視する膜厚監視方法において、
前記センサヘッドの温度が80°Cを超えるまでは、前記水晶振動子の冷却処理を行わないことを特徴とする膜厚監視方法。
IPC (3):
G01B 17/02
, C23C 14/24
, C23C 14/34
FI (3):
G01B17/02 A
, C23C14/24 U
, C23C14/34 U
F-Term (11):
2F068AA28
, 2F068BB15
, 2F068DD12
, 2F068EE03
, 2F068FF23
, 2F068LL12
, 2F068SS05
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029EA01
, 4K029EA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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圧電結晶発振式膜厚計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-344055
Applicant:日本真空技術株式会社
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蒸着装置における膜厚監視制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-217464
Applicant:日本真空技術株式会社
Cited by examiner (2)
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