光学素子作製方法、これに用いる電着液および光学素子製造装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002179857
Publication number (International publication number)：2004021196
Application date： Jun. 20, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：

【課題】薄膜の面内、膜厚方向において機能性材料の連続的な濃度階調を持たせることが容易な光学素子の作製方法、このための電着液および製造装置。【解決手段】機能性材料を含む電着液を用いて、光電着法あるいは電着法により光学素子作製基板に光学素子を作製する方法において、光学素子作製基板近傍における電着液中の機能性材料の濃度を変化させることにより、その中に含まれる機能性材料が膜厚の方向および/または膜の面内方向において濃度階調を有する薄膜を作製する工程を含む光学素子作製方法、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下し、疎水性基と親水性基を有し、疎水基の数が、親水基と疎水基の総数の30%から80%の範囲にある膜形成高分子材料および機能性材料を含む電着液、および電着又は光電着薄膜形成装置に、光学素子作製基板に対し電着液の流れを形成するための液流形成機構を設けた光学素子製造装置。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

絶縁性基板上に導電性薄膜を設けた光学素子作製基板を、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成高分子材料および機能性材料を含む水系の電着液に、前記光学素子作製基板の少なくとも前記導電性薄膜が電着液に接触するように配置した状態で、前記導電性薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記導電性薄膜の上に前記膜形成高分子材料および機能性材料を含む薄膜を析出形成させる工程を含む光学素子作製方法であって、光学素子作製基板近傍における電着液中の機能性材料の濃度を変化させることにより、その中に含まれる機能性材料が濃度階調を有する薄膜を作製する工程を含む光学素子作製方法。

IPC (1)：

G02B6/13

FI (1)：

G02B6/12 M

F-Term (12)：

2H047KA04 , 2H047PA01 , 2H047PA15 , 2H047PA22 , 2H047PA28 , 2H047QA02 , 2H047QA04 , 2H047QA05 , 2H047TA41 , 2H048BA02 , 2H048BA62 , 2H048BB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

画像記録方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-145795 Applicant：富士ゼロックス株式会社
カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター及びその製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-297466 Applicant：富士ゼロックス株式会社
酸化亜鉛薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-242707 Applicant：キヤノン株式会社

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