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J-GLOBAL ID：200903064673992432

立体形状計測装置

Inventor：
石原 満宏

About 石原 満宏


Applicant, Patent owner：
株式会社高岳製作所

About 株式会社高岳製作所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995308587
Publication number (International publication number)：1997126739
Application date： Nov. 02, 1995
Publication date： May. 16, 1997
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、2次元配列型共焦点光学系を用いた高速、高精度の立体形状測定装置を提供する。【解決手段】 2次元配列型共焦点光学系2とその像を光電変換する2次元光電センサ3とよりなる共焦点撮像系1と、共焦点撮像系1の焦点位置変化手段9と、共焦点走査撮像系1と焦点位置変化手段9とから得られた焦点位置の異なる複数枚の画像から、画像の濃度情報を用いて、画像の焦点位置間隔を超える精度で画像各点の合焦位置を求めることで物体の立体形状を演算する画像処理装置4とにより構成される。
Claim (excerpt)：
物体の立体形状を光学的に計測する装置において、2次元配列型共焦点光学系と2次元配列型共焦点光学系により得られる2次元光学像を光電変換する2次元光電センサとより構成された共焦点撮像系と、前記2次元配列型共焦点光学系の焦点位置を変える焦点位置変化手段と、前記共焦点撮像系と前記焦点位置変化手段とにより得られた焦点位置の異なる複数の画像を取り込み、焦点位置の変化に対応して変化する画像各点の濃度値から、取り込まれた画像の焦点位置間隔を超える精度で、濃度値の最大値を与える焦点位置を内挿処理を用いて画像各点毎に推定し、推定した焦点位置をその点の高さとする処理を実行する画像処理装置とから構成されることを特徴とする立体形状計測装置。
IPC (2)：
G01B 11/24 ,  G06T 7/00
FI (2)：
G01B 11/24 K ,  G06F 15/62 415
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 特開平4-265918
  • 特開平4-265918
  • 特開平3-063507
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