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J-GLOBAL ID:200903064709706415

水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松隈 秀盛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997209395
Publication number (International publication number):1999047738
Application date: Aug. 04, 1997
Publication date: Feb. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 微弱な紫外線又は可視光線を光触媒部材に照射して光触媒部材を光励起させ、この光触媒部材の光触媒作用を通じて細菌や微生物の増殖を抑制し、衛生的で安全な水を長期間供給できるようにすると共に貯水タンクやフロート弁等の劣化を促進させることのない水処理装置を提供する。【解決手段】 貯水タンク23の蓋体33を波長範囲が180nmから400nmまでの紫外線を含む光を透過させる紫外線透過性フッ素樹脂で形成し、この紫外線透過性フッ素樹脂部を透過させて貯水タンク23内に紫外線を照射する紫外線ランプ35を貯水タンク23の外部に設け、貯水タンク23の内部には、紫外線ランプ35からの紫外線の照射を受けて光触媒反応を生じさせて浄水に含まれる細菌や微生物の増殖を抑制する光触媒層37を設ける。
Claim (excerpt):
供給される浄水を所定量貯留することができる貯水タンクと、上記貯水タンクに取り付けられ且つ当該貯水タンク内に貯留された浄水を随時取り出すことができる給水バルブとを備えた水処理装置において、上記貯水タンクの少なくとも一部を180nm乃至480nmの波長範囲を含む電磁波を透過させる光透過性樹脂で形成し、当該貯水タンクの光透過性樹脂部を透過させて貯水タンク内に上記電磁波を照射する光源を貯水タンクの外部に設け、当該貯水タンクの内部には、上記光源からの電磁波の照射を受けて光触媒反応を生じさせて浄水に含まれる細菌や微生物の増殖を抑制する光触媒部材を設けたことを特徴とする水処理装置。
IPC (11):
C02F 1/30 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 532 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560
FI (12):
C02F 1/30 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 A ,  C02F 1/50 531 E ,  C02F 1/50 531 T ,  C02F 1/50 531 H ,  C02F 1/50 532 Z ,  C02F 1/50 540 C ,  C02F 1/50 550 B ,  C02F 1/50 560 C
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 浄水槽
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-074853   Applicant:平山捷二
  • 特開昭59-115779
  • 光触媒装置及びその応用装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-151661   Applicant:豊田合成株式会社
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Cited by examiner (5)
  • 浄水槽
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-074853   Applicant:平山捷二
  • 特開昭59-115779
  • 特開昭59-115779
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