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J-GLOBAL ID:200903064714272083
改善された冷却システムを有する耐腐食性静電チャック
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996000860
Publication number (International publication number):1996289579
Application date: Jan. 08, 1996
Publication date: Nov. 01, 1996
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 基板に対して改善された冷却性を有し、静電クランピング力が大きく、耐腐食性が改善された静電チャック。【解決手段】 プロセスチャンバ50内で基板40を保持するための静電チャック20は、復元性のある絶縁体30を支持するベース25を備えている。絶縁体30は、内部に埋め込まれた電極35と、外縁エッジ32を有する頂面34と、頂面34内にクーラントを保持する冷却グルーブ45を有する。エッジギャップの幅は、グルーブ45内のクーラントが、チャック20上に保持された基板40の外縁120を冷却するに充分小さくなっている。絶縁体30は冷却グルーブ45の先端からクーラントが実質的に漏出しないよう、絶縁体30は基板40に弾性的に適合する。
Claim (excerpt):
基板を保持するための静電チャックであって、(a)ベースと、(b)該ベース上の復元性ないし弾性のある絶縁体であって、前記絶縁体は、(i)内部に埋め込まれた電極と、(ii)外縁エッジを有する頂面と、(iii)該頂面内でクーラントを保持する冷却グルーブとを備え、該冷却グルーブの先端と該絶縁体の外縁エッジとが幅wを有するエッジギャップを画する、前記絶縁体とを備え、該グルーブ内のクーラントが、該チャック上に保持された基板の外縁を冷却するように、該エッジギャップの幅wが充分小さなサイズで与えられ、該チャック上に基板が静電的に保持され該冷却グルーブ内にクーラントが保持されているときに、該冷却グルーブの先端からクーラントが実質的に漏出しないように該エッジギャップ内の該絶縁体は該基板に弾性的に適合するよう、該絶縁体は充分に厚い、静電チャック。
IPC (3):
H02N 13/00
, B23Q 3/15
, H01L 21/68
FI (3):
H02N 13/00 D
, B23Q 3/15 D
, H01L 21/68 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭63-156321
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-049993
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-350844
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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