Pat

J-GLOBAL ID：200903064719610246

角型基板処理装置

Inventor： 北山 敦久 ,  吉野 裕文 ,  酒井 由雄 ,  岡本 伊雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小野 由己男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993188310
Publication number (International publication number)：1995045501
Application date： Jul. 29, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 パーティクルの発生を抑えかつ正確に角型基板を搬送する。【構成】 角型基板処理装置は、角型基板1の表面にフォトレジスト薄膜を形成する装置であって、スピンコーター5と基板端縁洗浄装置6と入口側アーム8とアーム洗浄部10とを備えている。スピンコーター5は、角型基板の表面にフォトレジスト液を回転塗布して薄膜を形成する。基板端縁洗浄装置5は、スピンコーター5により薄膜が形成された角型基板1の端縁及び裏面から不要な薄膜を除去する。入口側アーム8は、スピンコーター5から基板端縁洗浄部装置6へ角型基板1を搬送する。アーム洗浄部10は、入口側アーム8の爪部17a〜17d(基板接触部分)を洗浄する。

Claim (excerpt)：

角型基板の表面に薄膜を形成する角型基板処理装置であって、前記角型基板の表面に液体を塗布して薄膜を形成する薄膜形成部と、前記薄膜形成部により薄膜が形成された前記基板の端縁から不要な薄膜を除去する端縁洗浄部と、前記薄膜形成部から前記端縁洗浄部へ前記角型基板を搬送する角型基板搬送部と、前記角型基板搬送部の基板接触部分を洗浄するための搬送部洗浄部と、を備えた角型基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501 ,  H05K 3/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-165435   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平2-028948
  
• 基板端縁洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-357131   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社