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J-GLOBAL ID：200903064823757623

ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置

Inventor：
重田 公成

About 重田 公成


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999249277
Publication number (International publication number)：2001070950
Application date： Sep. 02, 1999
Publication date： Mar. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】半導体製造工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法において、排水のpHを9〜14に調整して過酸化水素水を添加する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを9〜14に調整する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水のpHを9〜14に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有する処理装置、及び、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを9〜14に調整する機構を有する処理装置。
Claim (excerpt)：
ジメチルスルホキシドを含有する排水の処理方法において、排水のpHを9〜14に調整して過酸化水素水を添加することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法。
IPC (2)：
C02F 1/58 ,  C02F 1/72
FI (2)：
C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z
F-Term (17)：
4D038AA08 ,  4D038AB09 ,  4D038AB13 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB01 ,  4D038BB13 ,  4D050AA13 ,  4D050AB13 ,  4D050AB18 ,  4D050BB09 ,  4D050BC01 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA01 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 水処理方法および水処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-026163   Applicant：野村マイクロ・サイエンス株式会社
  • 特開平2-078487

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