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J-GLOBAL ID：200903098759212296

水処理方法および水処理装置

Inventor：
小島 泉里

About 小島 泉里

, 
佐藤 典子

About 佐藤 典子


Applicant, Patent owner：
野村マイクロ・サイエンス株式会社

About 野村マイクロ・サイエンス株式会社


Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998026163
Publication number (International publication number)：1999114584
Application date： Feb. 06, 1998
Publication date： Apr. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 過酸化水素併用オゾン酸化において、半導体の洗浄工程で用いられた洗浄水、市水および工業用水等の原水中に含有された有機物(TOC)を高効率で分解し、該TOCがほぼ除去された純水を製造することができる水処理方法を提供すること。【解決手段】 被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを10ppm以上の濃度に溶解させて被処理水中に溶解させる有機物を酸化分解し、さらにこの有機物を酸化分解させる工程を経た被処理水に対してイオン交換を実行して有機物の酸化分解により生成した生成物を処理水より除去する。
Claim (excerpt)：
被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを10ppm以上の濃度に溶解させて被処理水中に溶解させる有機物を酸化分解する工程と、 前記有機物を酸化分解させる工程を経た被処理水に対してイオン交換を実行する工程と、を具備したことを特徴とする水処理方法。
IPC (4)：
C02F 1/72 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/78
FI (5)：
C02F 1/72 Z ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/78
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
  • 特開昭63-270596
  • 特開昭63-236591
  • 特開昭56-021686
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Cited by examiner (8)
  • 特公昭60-006718
  • 排水の高度処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-075894   Applicant：三菱電機株式会社, 財団法人エンジニアリング振興協会
  • 特開昭63-270596
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