Pat
J-GLOBAL ID:200903064843090625
膜厚測定装置および膜厚測定方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999338563
Publication number (International publication number):2001153620
Application date: Nov. 29, 1999
Publication date: Jun. 08, 2001
Summary:
【要約】【課題】 所定領域の膜厚分布を測定できるとともに、所定位置における膜厚を測定できる膜厚測定装置および膜厚測定方法を提供する。【解決手段】 光源部2からの光を波長選択手段23により白色光または特定波長λfの光に選択後、導光光学系3により基板W上の測定領域MAに照射する。所定位置P1からの反射光(白色光)L1を分光した後、第1受光素子43により受光して所定位置P1の膜厚値を求める。測定領域MAからの反射光L2(特定波長λf)を第2受光素子53で受光して測定領域MA内の膜厚分布を求める。
Claim (excerpt):
基板上に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、白色光を基板上の所定位置に照射する光学系と、所定位置から反射した反射光を所定の波長ごとに分光する分光手段と、分光手段で分光された光をそれぞれ受光する第1受光手段とを有し、第1受光手段による検出結果に基づいて所定位置における薄膜の膜厚を求める第1膜厚測定部と、互いに波長が異なる複数の光を基板上の所定領域に順次照射する照射手段と、2次元に配列された複数の受光素子からなる第2受光手段と、基板上の所定領域から反射した反射光を第2受光手段に一括して導く光学系とを有し、第2受光手段による検出結果に基づいて所定領域における薄膜の膜厚分布を求める第2膜厚測定部と、を備えることを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (2):
FI (2):
G01B 11/06 G
, H01L 21/66 P
F-Term (53):
2F065AA30
, 2F065AA55
, 2F065BB01
, 2F065BB03
, 2F065CC17
, 2F065CC25
, 2F065CC31
, 2F065FF48
, 2F065FF51
, 2F065GG02
, 2F065GG22
, 2F065GG23
, 2F065GG24
, 2F065HH13
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ09
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065LL22
, 2F065LL30
, 2F065LL42
, 2F065LL67
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ17
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065QQ26
, 2F065QQ27
, 2F065QQ29
, 2F065QQ41
, 2F065TT02
, 4M106AA01
, 4M106AA20
, 4M106BA04
, 4M106BA20
, 4M106CA48
, 4M106CA50
, 4M106DB02
, 4M106DB03
, 4M106DB12
, 4M106DB13
, 4M106DB15
, 4M106DB18
, 4M106DH12
, 4M106DH31
, 4M106DH38
, 4M106DH39
, 4M106DH50
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
研磨方法及びそれを用いた研磨装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-169557
Applicant:キヤノン株式会社
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