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J-GLOBAL ID：200903065132667918
フォトソルダーレジストインク、プリント回路基板及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
安藤 惇逸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995233442
Publication number (International publication number)：1996211611
Application date： Aug. 17, 1995
Publication date： Aug. 20, 1996
Summary：
【要約】【構成】 A.分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体40〜100モル%とその他のエチレン性不飽和単量体0〜60モル%を重合させて得られるエポキシ基含有重合体、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.カルボキシル基及び光重合可能なエチレン性不飽和基を有し且つ希アルカリ溶液で溶解又は分散可能な感光性樹脂を含んでなる、希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインク。【効果】 使用時において現像幅が広く、プリキュア後の基板の長期保存が可能であり、また解像性、感度及び耐半田性等に優れ、これをプリント回路基板の製造に使用した場合、基板上に形成されたソルダーレジストは優れた基板密着性、耐薬品性、耐金メッキ性及び電気特性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性等を示す。
Claim (excerpt)：
A.分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体40〜100モル%とその他のエチレン性不飽和単量体0〜60モル%を重合させて得られるエポキシ基含有重合体、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.カルボキシル基及び光重合可能なエチレン性不飽和基を有し且つ希アルカリ溶液で溶解又は分散可能な感光性樹脂を含んでなる、希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインク。
IPC (10)：
G03F 7/038 503
, C08F 2/48 MDH
, C08G 59/20 NHW
, C08G 59/40 NKH
, C09D 11/00 PTE
, C09D 11/00 PTR
, G03F 7/027 515
, G03F 7/032 501
, H05K 3/18
, H05K 3/28
