超微粒子薄膜形成方法及び装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：川井治男 , 川井治男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000237481
Publication number (International publication number)：2002045735
Application date： Aug. 04, 2000
Publication date： Feb. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】ナノメートルオーダーの極薄の超微粒子膜を形成することができ、また、材料微粒子の表面を新しい活性なものにして、強固な微粒子間接合の超微粒子薄膜を形成することができ、さらに、超微粒子薄膜の各種の層構成を採ることを可能にする【解決手段】基板11上に材料微粒子の薄膜を形成する場合に、減圧された成膜チェンバー2内に反射面12と基板11とを配置し、材料微粒子をエアロゾル化して反射面12に衝突させてから基板11上に付着させる

Claim (excerpt)：

基板上に材料の超微粒子によって薄膜を形成する場合に、減圧された成膜チャンバー内に反射面と前記基板とを配置し、材料微粒子をエアロゾル化して前記反射面に衝突させてから前記基板上に付着させることを特徴とする超微粒子薄膜の形成方法

IPC (5)：

B05B 7/14 , B05C 19/04 , B05D 3/12 , B05D 7/24 301 , H01B 13/00 503

FI (5)：

B05B 7/14 , B05C 19/04 , B05D 3/12 A , B05D 7/24 301 A , H01B 13/00 503 B

F-Term (32)：

4D075AA01 , 4D075AA26 , 4D075AA34 , 4D075BB56Z , 4D075CA22 , 4D075CB06 , 4D075DA06 , 4D075DC19 , 4D075DC21 , 4D075DC24 , 4D075EA02 , 4D075EB01 , 4D075EB05 , 4F033QA08 , 4F033QB02Y , 4F033QB05 , 4F033QB12Y , 4F033QB13Y , 4F033QB20 , 4F033QC01 , 4F033QC07 , 4F033QD05 , 4F033QD11 , 4F033QE05 , 4F033QH02 , 4F033QH10 , 4F033QH13 , 4F042AA02 , 4F042AB06 , 4F042EC04 , 5G323BA02 , 5G323BB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-222119
特開平1-108744
特開平2-221382

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