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J-GLOBAL ID:200903065228099007

廃棄物処理方法および廃棄物処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大内 康一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995070779
Publication number (International publication number):1996238470
Application date: Mar. 03, 1995
Publication date: Sep. 17, 1996
Summary:
【要約】【目的】 この発明は家庭の台所から排出される生ごみ等を無臭、無害な生成水に浄化処理することができる廃棄物処理装置の提供を目的とする。【構成】 被処理物を粉砕するとともに、この被処理物と、嫌気性菌と好気性菌とを含有する分解処理液と、を混合し、分解処理液内の嫌気性菌によって被処理物を化学分解する第1処理手段Aと、好気性菌を付着させた濾過部材5に第1処理手段Aを通過した分解処理液と被処理物の混合液と空気を通過させ、好気性菌によって、分解処理液内の嫌気性菌を捕食させるとともに、好気性菌によって、前記混合液中の被処理物を化学分解させ、その後濾過部材の濾過処理により水質調整を施し、これらの浄化が終了した生成水を流出する第2処理手段Bと、を備えて構成する。
Claim (excerpt):
生ごみ等の廃棄物を浄化処理するための廃棄物処理方法であって、嫌気性菌および好気性菌を含有する分解処理液と、この分解処理液と被処理物とを混合し、被処理物を粉砕するとともにこれらを撹拌して、分解処理液内の嫌気性菌によって被処理物を化学分解する第1浄化処理工程、好気性菌を付着させた濾過部材に、空気および前記第1浄化処理工程を通過した分解処理液と被処理物とからなる混合液を通過させ、好気性菌により前記混合液中の嫌気性菌を捕食させるとともに、好気性菌により前記混合液中の被処理物を化学分解させ、その液を濾過部材に接触させることで水質調整を施し、これらの浄化処理が施された生成水を流出させる第2浄化処理工程、前記第1および第2浄化処理工程において発生するガスを殺菌、脱臭した後、排出するガス処理工程、前記第1および第2浄化処理工程において化学分解されない残滓物を脱水処理し、その抽出液を第1浄化処理工程へ送り、脱水処理後の残滓物を排出する残滓物処理工程、以上の工程からなる廃棄物処理方法。
IPC (11):
B09B 3/00 ZAB ,  A61L 9/015 ,  A61L 11/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/74 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/48 ,  C02F 1/78 ZAB ,  C02F 3/30 ZAB
FI (11):
B09B 3/00 ZAB D ,  A61L 9/015 ,  A61L 11/00 ,  C01B 13/10 D ,  C02F 1/48 A ,  C02F 1/78 ZAB ,  C02F 3/30 ZAB Z ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 116 J ,  B01D 53/34 116 F ,  B09B 3/00 ZAB C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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