有機物含有水の処理装置及び処理方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：栗原浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001329463
Publication number (International publication number)：2003126849
Application date： Oct. 26, 2001
Publication date： May. 07, 2003
Summary：

【要約】【課題】超純水製造システム一次純水系において、非イオン性TOC成分を簡単な装置で低コストで効率的に除去することができる有機物含有水の処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】被処理液である有機物含有水を加圧して送液する送液手段2と、この送液手段2により加圧されて送られた加圧処理液を噴射して当該噴射された加圧処理液中にキャビテーションを発生させるキャビテーション発生手段3と、このキャビテーションにより処理されたキャビテーション処理液中のイオン性物質を除去する電気再生式脱塩装置4とを具備する。

Claim (excerpt)：

被処理液である有機物含有水を加圧して送液する送液手段と、この送液手段により加圧されて送られた加圧処理液を噴射して当該噴射された加圧処理液中にキャビテーションを発生させるキャビテーション発生手段と、このキャビテーションにより処理されたキャビテーション処理液中のイオン性物質を除去する電気再生式脱塩装置とを具備することを特徴とする有機物含有水の処理装置。

IPC (11)：

C02F 1/34 , B01D 61/02 , B01D 61/48 , C02F 1/32 , C02F 1/44 , C02F 1/469 , C02F 1/72 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

FI (14)：

C02F 1/34 , B01D 61/02 , B01D 61/48 , C02F 1/32 , C02F 1/44 J , C02F 1/72 Z , C02F 9/00 502 F , C02F 9/00 502 K , C02F 9/00 502 L , C02F 9/00 502 N , C02F 9/00 502 Z , C02F 9/00 503 B , C02F 9/00 504 B , C02F 1/46 103

F-Term (50)：

4D006GA03 , 4D006GA17 , 4D006HA42 , 4D006JA30Z , 4D006KA01 , 4D006KA12 , 4D006KA52 , 4D006KA57 , 4D006KA72 , 4D006KB30 , 4D006KE04 , 4D006MA13 , 4D006MA14 , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PC02 , 4D037AA03 , 4D037AB01 , 4D037BA18 , 4D037BA26 , 4D037CA03 , 4D037CA04 , 4D037CA11 , 4D037CA12 , 4D037CA15 , 4D050AA05 , 4D050AB07 , 4D050AB11 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BD02 , 4D050BD06 , 4D050CA07 , 4D050CA09 , 4D050CA10 , 4D050CA20 , 4D061DA02 , 4D061DB18 , 4D061DC06 , 4D061DC08 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB04 , 4D061EB13 , 4D061FA07 , 4D061FA08 , 4D061FA09 , 4D061FA16 , 4D061FA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

水中の有機物除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-084952 Applicant：オルガノ株式会社
特開平2-086890

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