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J-GLOBAL ID：200903065300966195

シリコン用研磨液組成物

Inventor： 鈴木 哲雄 ,  原 宣宏
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 植木 久一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996120549
Publication number (International publication number)：1997306880
Application date： May. 15, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 研磨砥粒として作用するコロイダルシリカの使用を大幅に減少して、従来技術における問題を発生させることなく、シリコンウェハーの表面、或は該シリコンウェハーの表面に形成されるシリコンからなる膜の表面を効果的に研磨することのできる研磨液組成物を提供する。【解決手段】 水溶性ケイ酸成分、コロイダルシリカおよびアルカリ成分を含有し、pHが8.5〜13であるアルカリ性懸濁液からなる。

Claim (excerpt)：

水溶性ケイ酸成分、コロイダルシリカおよびアルカリ成分を夫々含有し、pHが8.5〜13であるアルカリ性懸濁液からなるものであることを特徴とするシリコン用研磨液組成物。

IPC (3)：

H01L 21/304 321 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (3)：

H01L 21/304 321 P ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭60-263666
  
• 特開平3-250731
  
• 特開平4-120719
  
• 研磨液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-226319   Applicant：富士通株式会社