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J-GLOBAL ID：200903065332033395

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂

Inventor： 吉田 優子 ,  嶋田 和人 ,  平野 修史
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社
Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008201279
Publication number (International publication number)：2009086646
Application date： Aug. 04, 2008
Publication date： Apr. 23, 2009
Summary：

【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず、液浸露光においても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが抑制されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物が含有する新規な樹脂を提供する。【解決手段】(A)側鎖に特定のラクトン構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び該ポジ型感光性組成物が含有する新規な樹脂。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/26 ,  H01L21/30 502R

F-Term (32)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA02 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA40Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-207958   Applicant：富士写真フイルム株式会社