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J-GLOBAL ID:200903065501493074
無機EL蛍光体薄膜用ターゲット、蛍光体薄膜、無機EL素子および硫化物蛍光体薄膜の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999297022
Publication number (International publication number):2001118677
Application date: Oct. 19, 1999
Publication date: Apr. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】 硫黄不足を抑制し、有毒ガス除去装置、安全対策が不要であり、硫化物薄膜の結晶性が高く、発光輝度、効率、色純度に優れた硫化物蛍光体薄膜が形成可能な無機EL蛍光体薄膜用ターゲット、これにより形成された蛍光体薄膜、無機EL素子および硫化物蛍光体薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 II族-硫黄化合物、II族-III族-硫黄化合物または希土類硫化物を主成分とした母体材料と、この母体材料組成に対し、硫化マグネシウム(MgS)、硫化カルシウム(CaS)および硫化亜鉛(ZnS)のうちの1種類または2種類以上をMgS、CaSおよびZnS換算で5〜50 mol%含有する構成の無機EL蛍光体薄膜用ターゲット、これにより形成された蛍光体薄膜、無機EL素子、およびこれを用いた硫化物蛍光体薄膜の製造方法とした。
Claim (excerpt):
II族-硫黄化合物、II族-III族-硫黄化合物または希土類硫化物を主成分とした母体材料と、この母体材料組成に対し、硫化マグネシウム(MgS)、硫化カルシウム(CaS)および硫化亜鉛(ZnS)のうちの1種類または2種類以上をMgS、CaSおよびZnS換算で3〜100 mol%含有する無機EL蛍光体薄膜用ターゲット。
F-Term (13):
3K007AB02
, 3K007AB03
, 3K007AB04
, 3K007CA00
, 3K007CA01
, 3K007CA02
, 3K007DA02
, 3K007DB01
, 3K007DB02
, 3K007DC02
, 3K007DC04
, 3K007FA01
, 3K007FA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平1-245086
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薄膜エレクトロルミネセンス素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-292409
Applicant:富士電機株式会社
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薄膜電場発光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-137070
Applicant:富士電機株式会社
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