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J-GLOBAL ID：200903065521395818

有害物質除去剤およびその製造方法並びにそれを用いた有害物質除去方法

Inventor： 野村 英司 ,  小山 俊洋 ,  小泉 純子
Applicant, Patent owner： 石原産業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996140822
Publication number (International publication number)：1997299809
Application date： May. 09, 1996
Publication date： Nov. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】取り扱い性が良く、高い光触媒活性を持ち、かつ、その光触媒活性を長期間にわたって維持でき、しかも、湿潤下でも使用できる有害物質除去剤を提供することを課題とする。【解決手段】金属酸化物ゾルを構成していた金属酸化物を結着剤として用いた、少なくとも光半導体と該金属酸化物から成る有害物質除去剤である。また、光半導体と金属酸化物ゾルとの混合物を造粒あるいは成形し、次いで、乾燥する有害物質除去剤の製造方法である。さらに、前記有害物質除去剤に有害物質を含む流体を接触させて、あるいは有害物質除去剤に光を照射しながら有害物質を含む流体を接触させて、有害物質を除去する有害物質除去方法である。

Claim (excerpt)：

金属酸化物ゾルを構成していた金属酸化物を結着剤として用いた、少なくとも光半導体と該金属酸化物から成る造粒体あるいはそれらの成形体であることを特徴とする有害物質除去剤。

IPC (3)：

B01J 35/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ZAB

FI (3)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 ZAB M ,  B01D 53/36 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 窒素酸化物の分解方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-256218   Applicant：日本石油株式会社
• 特開平2-280839
  
• デュレンの気相接触酸化用流動触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-118401   Applicant：川崎製鉄株式会社, 触媒化成工業株式会社
• 特開昭55-041881
  
• 耐水性白色エチレン分解触媒、その製造方法およびエチレン分解装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-354314   Applicant：日揮ユニバーサル株式会社
• 酸化チタン粉体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-145628   Applicant：石原産業株式会社
• 特開昭61-127682
  
• 包接体触媒及びその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-108748   Applicant：東和電化工業株式会社, 井澤敏郎