粒子分布の評価方法および装置、レーザープロファイルの測定方法および装置、粒子採取方法および装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：村瀬一美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004004755
Publication number (International publication number)：2005195559
Application date： Jan. 09, 2004
Publication date： Jul. 21, 2005
Summary：

【課題】 2つのレーザ装置を用いず簡便に粒子源における高エネルギー粒子の密度分布を測定する。【解決手段】粒子が拡散する点源の集合である粒子源1と、粒子が入射する検出面2aを有し当該検出面2a上において粒子が入射した位置と当該位置に入射した粒子数を測定する検出手段2との間に、粒子の通過を遮る遮蔽材にピンホール3が形成されて成るピンホール部4を配置し、点源から粒子が拡散する条件と、点源から出発した粒子がピンホール3を通過して検出面2aに到達する条件とに基づいて、検出手段2の測定結果から、粒子源1における点源から拡散した粒子数を求める。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

粒子が拡散する点源の集合である粒子源と、前記粒子が入射する検出面を有し当該検出面上において粒子が入射した位置と当該位置に入射した粒子数を測定する検出手段との間に、前記粒子の通過を遮る遮蔽材にピンホールが形成されて成るピンホール部を配置し、前記点源から前記粒子が拡散する条件と、前記点源から出発した前記粒子が前記ピンホールを通過して前記検出面に到達する条件とに基づいて、前記検出手段の測定結果から、前記粒子源における前記点源から拡散した粒子数を求めることを特徴とする粒子分布の評価方法。

IPC (6)：

G01T1/29 , G01T1/38 , G21K1/00 , H01J37/05 , H01J49/28 , H01S3/00

FI (9)：

G01T1/29 A , G01T1/38 , G21K1/00 A , G21K1/00 E , G21K1/00 X , H01J37/05 , H01J49/28 , H01S3/00 F , H01S3/00 G

F-Term (18)：

2G088EE30 , 2G088FF01 , 2G088FF12 , 2G088FF14 , 2G088FF15 , 2G088JJ01 , 2G088JJ05 , 2G088JJ16 , 2G088JJ40 , 2G088KK01 , 2G088KK32 , 2G088KK35 , 2G088KK40 , 5C033AA01 , 5C038HH30 , 5F172AE06 , 5F172AF07 , 5F172ZZ04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

高エネルギー粒子の発生方法およびこれを利用した放射化分析方法と、高エネルギー粒子発生装置および放射化分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-295211 Applicant：財団法人電力中央研究所

Cited by examiner (9)

特開平4-259885
特開昭64-088287
核反応の誘起方法および核反応誘起装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-295208 Applicant：財団法人電力中央研究所, ザリージェンツオブザユニバーシティオブミシガン

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