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J-GLOBAL ID:200903003854766532

高エネルギー粒子の発生方法およびこれを利用した放射化分析方法と、高エネルギー粒子発生装置および放射化分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 村瀬 一美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000295211
Publication number (International publication number):2002107499
Application date: Sep. 27, 2000
Publication date: Apr. 10, 2002
Summary:
【要約】【課題】 設備装置類の小型化、低コスト化を図る。取り扱いを簡便なものにする。【解決手段】 ターゲット12と、瞬間的な照射でターゲット12の電離が可能なエネルギーのレーザ光線13をターゲット12に瞬間的に照射して高エネルギー粒子14を発生させるレーザ光線照射手段15を備えて高エネルギー粒子発生装置11を構成する。この高エネルギー粒子発生装置11と、当該高エネルギー粒子発生装置11によって発生させた高エネルギー粒子14の照射を受けた測定対象物16の変化を計測する計測手段17を備えて放射化分析装置を構成する。
Claim (excerpt):
瞬間的な照射でターゲットの電離が可能なエネルギーのレーザ光線を前記ターゲットに瞬間的に照射して高エネルギー粒子を発生させることを特徴とする高エネルギー粒子の発生方法。
IPC (4):
G21K 5/00 ,  G01N 23/221 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/08
FI (7):
G21K 5/00 M ,  G01N 23/221 ,  G21K 1/00 A ,  G21K 1/00 E ,  G21K 5/08 N ,  G21K 5/08 X ,  G21K 5/08 Z
F-Term (13):
2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001AA07 ,  2G001AA09 ,  2G001CA02 ,  2G001CA03 ,  2G001CA04 ,  2G001CA05 ,  2G001GA01 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001MA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 2000年春季第47回応用物理学関係連合講演会における発表文書, 20000328

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