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J-GLOBAL ID:200903065667285356

X線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995062462
Publication number (International publication number):1996264139
Application date: Mar. 22, 1995
Publication date: Oct. 11, 1996
Summary:
【要約】【目的】 実用的な量のX線を放射することのできる小型のX線発生装置を提供する。【構成】 カソード1はガラス基板2上に形成された導電層3,およびこの導電層3上に10μmピッチ程度で1次元アレイ状に配置された円錐状突起部4によって構成されている。この突起部4は半導体微細加工によって形成されている。突起部4の頭部近傍周辺には絶縁層5を介してゲート電極6が設けられており、このゲート電極6は突起部4の頭部近傍に形成される電界を制御する。ターゲット7は突起部4から放出された電子を受けてX線を放射する。突起部4およびターゲット7間の距離は0.5〜1mm程度に設定されている。気密容器8はこれらカソード1,ゲート電極6およびターゲット7を真空状態に保っており、この気密容器8にはX線を透過するX線窓9が形成されている。
Claim (excerpt):
半導体微細加工により一次元または二次元アレイ状に配置された突起部を有する電子放出陰極と、この突起部近傍に形成される電界を制御する制御電極と、前記電子放出陰極から放出された電子を受けてX線を放射するターゲットと、このターゲットから放射されるX線を透過する窓を有し前記電子放出陰極,前記制御電極および前記ターゲットを真空状態に保つ気密容器とを備えて構成されるX線発生装置。
IPC (2):
H01J 35/06 ,  H01J 35/24
FI (2):
H01J 35/06 A ,  H01J 35/24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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