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J-GLOBAL ID：200903065668608019

枚葉式の熱処理装置

Inventor： 荒見 淳一 ,  八木 宏憲 ,  青木 一二
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995219669
Publication number (International publication number)：1997050965
Application date： Aug. 04, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：

【要約】【目的】 載置台の裏面側へ処理ガスが回り込むことを防止することができる枚葉式の熱処理装置を提供する。【構成】 断熱性支柱30の上に支持された載置台28に載置した被処理体Wを、その下方の加熱ランプ40により間接加熱して熱処理を行なう枚葉式の熱処理装置において、前記載置台の裏面の周縁部に、この載置台の裏面に処理ガスが回り込むことを防止するためのガス侵入阻止部材86を設けるように構成する。これにより、裏面側に侵入してきた処理ガスは、阻止部材の表面に成膜が付着することにより消費されることになる。

Claim (excerpt)：

断熱性支柱の上に支持された載置台に載置した被処理体を、その下方の加熱ランプにより間接加熱して熱処理を行なう枚葉式の熱処理装置において、前記載置台の裏面の周縁部に、この載置台の裏面に処理ガスが回り込むことを防止するためのガス侵入阻止部材を設けるように構成したことを特徴とする枚葉式の熱処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44

FI (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 J

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平4-343418
  
• 熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-132595   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• CVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-129206   Applicant：アネルバ株式会社

Cited by examiner (3)

• 特開平4-343418
  
• 熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-132595   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• CVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-129206   Applicant：アネルバ株式会社