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J-GLOBAL ID：200903065902710000

反射防止膜及び反射防止膜の製造方法

Inventor：
吉川 裕司

About 吉川 裕司

, 
山谷 正明

About 山谷 正明


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (3)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002279456
Publication number (International publication number)：2004117704
Application date： Sep. 25, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：
【解決手段】(A)酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉄、酸化スズ及びこれらの複合酸化物から選ばれる金属酸化物微粒子、(B)アクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる基を有する化合物及び/又は(C)エポキシ基及びオキセタン基から選ばれる基を2個以上有する化合物を含むコーティング剤の硬化物からなる高屈折率層、(D)内部に空隙を有するシリカ系無機酸化物微粒子、(B)アクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる基を有する化合物及び/又は(C)エポキシ基及びオキセタン基から選ばれる基を2個以上有する化合物を含むコーティング剤の硬化物からなる低屈折率層とが順次積層された反射防止膜。【効果】本発明によれば、高いレベルの反射防止能を有する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
基材上の少なくとも一面に形成される反射防止膜であって、 (A)酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉄、酸化スズ及びこれらの複合酸化物から選ばれる1種以上を含む平均粒径1〜500nmの金属酸化物微粒子と、 (B)1分子中にアクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる少なくとも1種の基を1個以上有する化合物及び/又は(C)1分子中にエポキシ基及びオキセタン基から選ばれる少なくとも1種の基を2個以上有する化合物と を主成分とするコーティング剤(1)の硬化物からなる高屈折率層と、 (D)内部に空隙を有する平均粒径1〜500nmのシリカ系無機酸化物微粒子と、 (B)1分子中にアクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる少なくとも1種の基を1個以上有する化合物及び/又は(C)1分子中にエポキシ基及びオキセタン基から選ばれる少なくとも1種の基を2個以上有する化合物と を主成分とするコーティング剤(2)の硬化物からなる低屈折率層と が順次積層されたことを特徴とする反射防止膜。
IPC (3)：
G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00
FI (3)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  B32B9/00 A
F-Term (37)：
2K009AA05 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC33 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  4F100AA19B ,  4F100AA20C ,  4F100AA21B ,  4F100AA23B ,  4F100AA27B ,  4F100AA28B ,  4F100AK12B ,  4F100AK12C ,  4F100AK21B ,  4F100AK21C ,  4F100AK25B ,  4F100AK25C ,  4F100AT00A ,  4F100CA30B ,  4F100CA30C ,  4F100DE01B ,  4F100DE01C ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JB14C ,  4F100JL11 ,  4F100JN01 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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