Pat
J-GLOBAL ID:200903041305293842
反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
柳川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998236340
Publication number (International publication number):1999153703
Application date: Aug. 07, 1998
Publication date: Jun. 08, 1999
Summary:
【要約】【課題】 大量生産に適し、屈折率が非常に高く、強度が優れた高屈折率層を有する反射防止膜を得る。【解決手段】 反射防止膜の高屈折率層に、1乃至200nmの平均粒径を有する無機微粒子を5乃至65体積%および架橋しているアニオン性ポリマーを35乃至95体積%含ませる。
Claim (excerpt):
屈折率が1.65乃至2.40である高屈折率層と、屈折率が1.20乃至1.55である低屈折率層とを有する反射防止膜であって、高屈折率層が、1乃至200nmの平均粒径を有する無機微粒子を5乃至65体積%および架橋しているアニオン性基を有するポリマーを35乃至95体積%含むことを特徴とする反射防止膜。
IPC (4):
G02B 1/11
, G02B 1/10
, G09F 9/00 318
, C09D 4/00
FI (4):
G02B 1/10 A
, G09F 9/00 318 A
, C09D 4/00
, G02B 1/10 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (22)
-
ハード性を有する高屈折率膜、反射防止フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-261755
Applicant:大日本印刷株式会社
-
機能性超微粒子を含む透明機能性膜、透明機能性フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-230801
Applicant:大日本印刷株式会社
-
反射防止体及びその利用装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-165345
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開昭61-043626
-
反射防止膜およびそれの製造方法および表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-030619
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
特開昭59-050401
-
特開昭63-004201
-
超微粒子含有反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-078240
Applicant:大日本印刷株式会社
-
光学材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-146815
Applicant:大日本印刷株式会社
-
特開平4-082145
-
撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-019122
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開平4-155732
-
特開昭58-063729
-
特開平3-238740
-
低反射部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-341438
Applicant:日東電工株式会社, 株式会社日立製作所
-
特開平1-298301
-
特開昭60-092850
-
特開平1-210433
-
機能性超微粒子を含む透明機能性膜、透明機能性フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-281198
Applicant:大日本印刷株式会社
-
特開昭56-084729
-
多孔質光学材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-163248
Applicant:大日本印刷株式会社
-
反射防止膜の製造方法および表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-030620
Applicant:富士写真フイルム株式会社
Show all
Cited by examiner (3)
Return to Previous Page