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J-GLOBAL ID:200903065944042563
分光分析装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
北村 修一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000294374
Publication number (International publication number):2002098636
Application date: Sep. 27, 2000
Publication date: Apr. 05, 2002
Summary:
【要約】【課題】 透過率が大きく異なるような種々の被計測物を計測対象とする場合であっても、分光スペクトルデータを極力、精度よく検出して、被計測物の内部品質の解析をすることが可能となる分光分析装置を提供する。【解決手段】 被計測物に光を照射する投光手段1と、被計測物の透過光を分光してその分光した光の分光スペクトルデータを計測する受光手段2と、その分光スペクトルデータに基づいて被計測物の内部品質を解析する演算手段3とを備えて構成され、受光手段2は、受光感度が異なる複数の受光状態で前記分光スペクトルデータを計測可能に構成され、演算手段3は、複数の受光状態のうち前記被計測物の内部品質を解析するのに適正な分光スペクトルデータを計測する受光状態を選択して、その選択した受光状態における分光スペクトルデータに基づいて前記被計測物の内部品質を解析する。
Claim (excerpt):
被計測物に光を照射する投光手段と、前記被計測物の透過光又は反射光を分光してその分光した光の分光スペクトルデータを計測する受光手段と、その分光スペクトルデータに基づいて前記被計測物の内部品質を解析する演算手段とを備えて構成されている分光分析装置であって、前記受光手段は、受光感度が異なる複数の受光状態で前記分光スペクトルデータを計測可能に構成され、前記演算手段は、前記複数の受光状態のうち前記被計測物の内部品質を解析するのに適正な分光スペクトルデータを計測する受光状態を選択して、その選択した受光状態における分光スペクトルデータに基づいて前記被計測物の内部品質を解析するように構成されている分光分析装置。
IPC (4):
G01N 21/35
, G01J 3/28
, G01J 3/42
, G01N 21/85
FI (4):
G01N 21/35 Z
, G01J 3/28
, G01J 3/42 U
, G01N 21/85 A
F-Term (52):
2G020AA03
, 2G020BA03
, 2G020BA20
, 2G020CA02
, 2G020CB04
, 2G020CB26
, 2G020CC05
, 2G020CC31
, 2G020CC47
, 2G020CC48
, 2G020CC63
, 2G020CD04
, 2G020CD12
, 2G020CD13
, 2G020CD24
, 2G020CD32
, 2G020CD33
, 2G020CD37
, 2G020CD41
, 2G020CD57
, 2G051AA05
, 2G051AB06
, 2G051BA06
, 2G051CA03
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051CB02
, 2G051CC07
, 2G051CC15
, 2G051DA01
, 2G051DA06
, 2G059AA01
, 2G059BB11
, 2G059DD12
, 2G059DD13
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059FF08
, 2G059HH01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ23
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059MM09
, 2G059MM18
, 2G059NN08
, 2G059PP01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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光学的測定方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-041944
Applicant:財団法人雑賀技術研究所
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特開平4-223230
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特開昭63-032354
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測光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-252098
Applicant:旭光学工業株式会社
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