真空浸炭方法及び装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：河内潤二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999104855
Publication number (International publication number)：2000001765
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】コーナー部も含めた表面炭素濃度過多による不具合を解決し、かつ幅広い浸炭圧力での処理が可能で煤の発生も無い安価な真空浸炭処理方法、装置を提供。【解決手段】浸炭ガスとしてエチレンガス又はエチレンガスとアセチレンガスとの混合ガスを用い、浸炭ガスの供給量を高流量レベルから低流量レベルさらに高流量レベルと周期的又はパルス状に変化させ、かつ高流量レベル時の浸炭室10の圧力を1〜10kPaの範囲にし、高流量レベルに対する低流量レベルの流量レベル比を0〜50%、時間比を50〜3,000%とし、さらに浸炭室内の圧力の調整を、真空排気装置12と浸炭室の排気口17間に設けられたバルブ又は可動オリフィス機構16を調整することにより行う。

Claim (excerpt)：

真空浸炭処理において、浸炭ガスとしてエチレンガス又はエチレンガスとアセチレンガスの混合ガスを用い、該浸炭ガスの供給量を少なくとも一度高流量レベルから低流量レベルへ、さらに高流量レベルから低流量レベルへと、繰り返して変化させ、かつ前記浸炭ガスの高流量レベル時の浸炭室の圧力が1〜10kPaの範囲にされていることを特徴とする真空浸炭方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

金属の浸炭方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-352428 Applicant：同和鉱業株式会社
真空浸炭方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-330688 Applicant：日本精工株式会社
特開昭53-022131

Cited by examiner (3)

金属の浸炭方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-352428 Applicant：同和鉱業株式会社
真空浸炭方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-330688 Applicant：日本精工株式会社
特開昭53-022131

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