成膜装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大石治仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999175428
Publication number (International publication number)：2001007031
Application date： Jun. 22, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】成膜を行なうガラス基板を搬送する際に、その表面における傷等の発生を防止すると共に、成膜工程に要する時間の短縮化、成膜炉の全長の短縮化等を図れる成膜装置を提供する。【解決手段】ガラス基板を搬送する金属製のベルト50と、ガラス基板が載置された状態でベルト50の一部を覆うと共にベルト50の一部を支持する底壁面63a’を有する成膜炉60と、成膜炉の外部に設けられてガラス基板を加熱するヒータ80とを備え、化学的気相成膜法により連続的に複数のガラス基板の表面に膜を生成する成膜装置において、ベルトコンベアのベルト50を、断面が略楕円の偏平形状に形成された金属線50aをメッシュ状に編み込んで形成した。

Claim (excerpt)：

ガラス基板を連続的に所定方向に搬送する金属製のベルトコンベアと、前記ベルトコンベアのベルトの一部を覆う空間を画定すると共にガラス基板が載置された状態で前記ベルトの一部を支持する底壁面を有する成膜炉と、前記成膜炉の外部に設けられて前記ガラス基板を加熱する加熱手段とを備え、前記ベルトコンベアにより搬送されるガラス基板を予め所定温度に加熱し、かつ、前記成膜炉の内部に膜の原料を供給して、化学的気相成膜法により連続的に複数のガラス基板の表面に膜を生成する成膜装置であって、前記ベルトは、断面が略楕円の偏平形状に形成された金属線をメッシュ状に編み込んで形成されている、ことを特徴とする成膜装置。

IPC (3)：

H01L 21/205 , B65G 49/06 , H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/205 , B65G 49/06 Z , H01L 21/68 A

F-Term (12)：

5F031CA05 , 5F031GA37 , 5F031GA51 , 5F031MA28 , 5F045AA03 , 5F045AB32 , 5F045AB40 , 5F045BB11 , 5F045CA15 , 5F045DP23 , 5F045EM01 , 5F045EM09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

連続加熱炉及びこれを用いた太陽電池製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-297065 Applicant：シャープ株式会社
CVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-176969 Applicant：株式会社東芝, 東芝電子エンジニアリング株式会社
一方向性電磁鋼板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-195488 Applicant：川崎製鉄株式会社

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