基板表面の平坦化方法、平坦化基板の製造方法、液晶表示装置および有機エレクトロルミネセンス素子

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：宮崎昭夫 , 金田暢之 , 伊藤克博 , 石橋政幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003141912
Publication number (International publication number)：2004349317
Application date： May. 20, 2003
Publication date： Dec. 09, 2004
Summary：

【課題】液晶表示素子・有機EL素子に用いられる平坦化した基板、半導体等の半導体装置の平坦化した基板、マイクロオプティクス等の光学機器において平坦化した基板、および平坦化した基板の製造方法、および平坦化した基板を用いた液晶表示装置、有機EL素子、半導体装置を提供する。【解決手段】基板表面の凹凸面の凹部10aの表面に、露光、放電、表面処理剤により、濡れ性変化面30を形成し、凸部10bと凹部10aの濡れ性を異ならせる。次に、表面の濡れ性の違いを利用し、凹部10aにのみ平坦化膜16を成膜し基板表面を平坦にする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

凹凸を有する基板表面の凹部および凸部の表面の濡れ性を、露光により相互に異ならせる工程と、前記濡れ性の違いによって前記凹部にのみ平坦化膜を成膜させる工程とを有する、基板表面の平坦化方法。

IPC (5)：

H01L21/027 , B01J35/02 , G02F1/1333 , H05B33/02 , H05B33/14

FI (5)：

H01L21/30 501 , B01J35/02 J , G02F1/1333 500 , H05B33/02 , H05B33/14 A

F-Term (26)：

2H090JA02 , 2H090JB02 , 2H090JC07 , 2H090JD14 , 2H090LA01 , 2H090LA04 , 3K007AB11 , 3K007CA00 , 3K007DB03 , 4G069AA02 , 4G069BA04A , 4G069BA48A , 4G069BB04A , 4G069BB06A , 4G069BB09A , 4G069BC12A , 4G069BC18A , 4G069BC22A , 4G069BC35A , 4G069BC36A , 4G069BC50A , 4G069BC66A , 4G069CD10 , 4G069ED01 , 4G069ED02 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-288229 Applicant：シャープ株式会社
カラーフィルタとその製造方法、液晶素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-349633 Applicant：キヤノン株式会社
光触媒体を用いた画像形成材料および画像形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-091206 Applicant：共同印刷株式会社, 中島章, 渡部俊也, 橋本和仁, 藤嶋昭

Show all

Return to Previous Page