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J-GLOBAL ID:200903066381383179
接合方法及び接合構造
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
和泉 良彦
, 小林 茂
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005012397
Publication number (International publication number):2006202944
Application date: Jan. 20, 2005
Publication date: Aug. 03, 2006
Summary:
【課題】大面積の接合に有利な接合方法及び接合構造を提供する。【解決手段】第一の物体の第一の金属からなる第一の金属層11と、第二の物体の第二の金属からなる第二の金属層であるCu基板21aとの間に、内部に空孔を有し、第三の金属からなる多孔質金属層であるCuポーラス板3を介在させ、Agナノペースト4を、第一の金属層11とCuポーラス板3との間、及びCu基板21aとCuポーラス板3との間に設置し、加熱して接合する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
第一の物体の第一の金属からなる第一の金属層と、第二の物体の第二の金属からなる第二の金属層との間に、内部に空孔を有し第三の金属からなる多孔質金属層を介在させ、
金属を含む有機系接合材を、前記第一の金属層と前記多孔質金属層との間、及び第二の金属層と前記多孔質金属層との間に設置し、
加熱して接合することを特徴とする接合方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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電極配設基体及びその電極接合方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-292868
Applicant:株式会社荏原製作所
Cited by examiner (2)
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接合部材およびこれを用いた半導体実装装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-064371
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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電極配設基体及びその電極接合方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-292868
Applicant:株式会社荏原製作所
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