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J-GLOBAL ID：200903066396825941

処理方法及び処理装置

Inventor： 立山 清久 ,  野村 雅文 ,  友枝 隆之
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994200289
Publication number (International publication number)：1996045832
Application date： Aug. 03, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 処理に供された処理液を容易に回収し、再生を容易にした処理方法及び処理装置を提供する。【構成】 処理液である現像液を供給する現像液供給ノズル22の他に、基板G上の現像液を吸引により回収する吸引ノズル23を設ける。これにより、現像液供給ノズル22から現像液を基板G上に供給した後、現像液を吸引ノズルによって吸引して回収することができる。また、回収した現像液を再生処理手段50によって再生して、現像液を再利用することができる。

Claim (excerpt)：

被処理体の表面に処理液を供給する処理液供給工程と、上記被処理体表面上の処理液を回収する処理液回収工程と、上記被処理体に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記被処理体に付着した洗浄液を除去する乾燥工程とを有することを特徴とする処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

FI (2)：

H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/30 569 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 薬液処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-003304   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭63-078529