金属酸化物膜およびその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：小栗昌平 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001029772
Publication number (International publication number)：2002234710
Application date： Feb. 06, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】光遮蔽や光波長選択透過作用を持つために十分な厚さを有し、かつ平滑で透明な金属酸化物膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】金属アルコキシドを原料としてディップコーティング法により形成されるものであって、金属アルコキシド溶液の溶媒として常圧における沸点が78°C以下のものを用い、基板の引き上げ速度を1〜20cm/minとすることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

金属アルコキシドを原料としてディップコーティング法により形成される金属酸化物膜であって、金属アルコキシド溶液の溶媒として常圧における沸点が78°C以下のものを用い、基板の引き上げ速度を1〜20cm/minとしたことを特徴とする金属酸化物膜。

IPC (4)：

C01B 13/32 , C01G 1/02 , C01G 23/053 , C03C 17/25

FI (4)：

C01B 13/32 , C01G 1/02 , C01G 23/053 , C03C 17/25 A

F-Term (22)：

4G042DA02 , 4G042DB11 , 4G042DD02 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4G047CA02 , 4G047CB06 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G059AA01 , 4G059AA07 , 4G059AC02 , 4G059AC04 , 4G059AC16 , 4G059AC30 , 4G059EA01 , 4G059EA04 , 4G059EA05 , 4G059EB07 , 4G059GA02 , 4G059GA04 , 4G059GA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開昭60-071547
ゾルゲル法による薄膜の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-148611 Applicant：住友電気工業株式会社
特開昭63-162549

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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