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J-GLOBAL ID：200903066548619374

フォトマスク、およびフォトマスクの製造方法

Inventor： 伊藤 大修
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Agent (2)： 加藤 敬子 ,  廣幸 正樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007079753
Publication number (International publication number)：2008241921
Application date： Mar. 26, 2007
Publication date： Oct. 09, 2008
Summary：

【課題】 静電気の発生を防止して、フォトマスクの静電破壊や遮光膜パターンの破損が生じにくく、かつ遮光膜パターンの精度を損なわないフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明のフォトマスクは、透明基板と、前記透明基板上に設けられた透明導電性膜と、前記透明導電性膜上に設けられた遮光膜パターンとを、備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

透明基板と、 前記透明基板上に設けられた透明導電性膜と、 前記透明導電性膜上に設けられた遮光膜パターンと を、備えるフォトマスク。

IPC (1)：

G03F 1/08

FI (2)：

G03F1/08 Z ,  G03F1/08 L

F-Term (5)：

2H095BA03 ,  2H095BB25 ,  2H095BB28 ,  2H095BB30 ,  2H095BC17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• フォトマスクの静電気による破壊を防止する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-389468   Applicant：株式会社アンデスインテック