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J-GLOBAL ID：200903066603207447

カラーフィルター用ブラックマトリックス及びブラックマトリックス用レジスト組成物

Inventor：
川名 真

About 川名 真

, 
森 光司

About 森 光司

, 
鈴木 光雄

About 鈴木 光雄


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995167422
Publication number (International publication number)：1997022653
Application date： Jul. 03, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：
【要約】【目的】 安価で、遮光性に優れ、耐溶剤性、基板との接着性にも優れたカラーフィルター用ブラックマトリックス及びレジスト組成物を提供する。【構成】 黒色顔料として、950°Cでの揮発分中のCO及びCO2 から算出した全酸素量が表面積100m2 当たり7mg以上であるカーボンブラックを用いたカラーフィルター用ブラックマトリックス。このカーボンブラックと光重合開始剤組成物及びエチレン性化合物を含有するブラックマトリックス用レジスト組成物。【効果】 面積酸素濃度7mg/100m2 以上という酸素量の大きいカーボンブラックであれば、分散性が良好である。カーボンブラックの配合量を多くできるため、膜厚が薄くても遮光性に優れ、耐溶剤性、基板との接着性にも優れたブラックマトリックスを短時間で製造できる。
Claim (excerpt)：
黒色顔料としてカーボンブラックを含有するブラックマトリックスにおいて、該カーボンブラックは、950°Cにおける揮発分中のCO及びCO2 から算出した全酸素量が、カーボンブラックの表面積100m2 当たり7mg以上であることを特徴とするカラーフィルター用ブラックマトリックス。
IPC (6)：
H01J 9/227 ,  C09D 5/00 PNV ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028
FI (6)：
H01J 9/227 D ,  C09D 5/00 PNV ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 遮光パターンの形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-064869   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 特開平3-244672
  • 特開昭58-210938
Cited by examiner (11)
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