放射線感応性混合物及びレリーフ構造の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田代烝治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993004516
Publication number (International publication number)：1993281745
Application date： Jan. 14, 1993
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】アルカリ性水溶液を使用して現像することができ、かつ短波長のUV光で感光性である層を製造することができる、レリーフ構造を製造ための新規のポジ型高放射線感応性系を提供すること。【構成】本質的に、(a)水に不溶性の結合剤又は結合剤混合物及び(b)照射すると強酸を形成する化合物、からなる放射線感応性混合物であって、成分(a)がフェノール樹脂であり、該フェノール樹脂のフェノール系ヒドロキシル基の一部又は全部が基(IA)又は(IB)【化1】[式中、R1、R2及びR3はそれぞれアルキルを表すか、又はR1はR2と一緒に環を形成し、XはCH2、O、S、SO2又はNR4である]と置換可能である。この混合物はレリーフ構造の製造に適している。

Claim (excerpt)：

本質的に、(a)水に不溶性の結合剤又は結合剤混合物及び(b)照射すると強酸を形成する化合物からなる放射線感応性混合物において、成分(a)がフェノール樹脂であり、該フェノール樹脂のフェノール系ヒドロキシル基の5〜100%が一般式(IA):【化1】[式中、R1,R2及びR3は相互に同じか又は異なっており、かつそれぞれ1〜16個の炭素原子を有する直鎖状又は枝分れ鎖状アルキル基、5〜16個の炭素原子を有するシクロアルキル基、8個までの酸素原子、硫黄原子又は窒素原子及び16個までの炭素原子を有するオキサアルキル基、チアアルキル基又はアザアルキル基を表すか、又はR1とR2は一緒に-(CH2)n-(該式中、n=3〜6)を介して炭素環式基、又は-(CH2)m-X-(CH2)k-{該式中、m=1〜6,k=1〜6及びX=O,S,SO2またはNR4(該式中、R4=16個までの炭素原子を有するアルキル、アリール、置換されたアリール、アルアルキルである)}を介して複素環式基を形成する]で示される基、又は一般式(IB):【化2】[式中、R1は前記のものを表し、かつp=1〜6、q=1〜6、X=(CH2),O,S,SO2又はNR4(該式中、R4=16個までの炭素原子を有するアルキル、アリール、置換されたアリールまたはアルアルキルである)を表す]で示される基によって置換されていることを特徴とする、放射線感応性混合物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭64-033546
特開平3-241355
特開平4-211258

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