プラズマ処理装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , , , ,
Agent (1)：浅井章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995240876
Publication number (International publication number)：1997063793
Application date： Aug. 25, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】アンテナ部材の熱的損傷を避けるようにしたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】被処理体Wを載置する載置台6を内部に設けると共にマイクロ波導入口34を形成した処理容器4と、プラズマ発生用のマイクロ波を発生するマイクロ波発生器50と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管52,58と、同心円状或いは渦巻き状に形成された多数のスリット38を有して前記導波管に接続されて前記載置台と対向するように前記マイクロ波導入口に設けられた平面アンテナ部材36と、この平面アンテナ部材を覆って前記処理容器内を気密に保持するアンテナ覆い部材42とを備えるように構成する。これにより、アンテナ部材を大気放熱可能とする。

Claim (excerpt)：

被処理体を載置する載置台を内部に設けると共にマイクロ波導入口を形成した処理容器と、プラズマ発生用のマイクロ波を発生するマイクロ波発生器と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管と、同心円状或いは渦巻き状に形成された多数のスリットを有して前記導波管に接続されて前記載置台と対向するように前記マイクロ波導入口に設けられた平面アンテナ部材と、この平面アンテナ部材を覆って前記処理容器内を気密に保持するアンテナ覆い部材とを備えるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 B , H05H 1/46 L , C23C 16/50 , C23F 4/00 D , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平3-191073
特開平1-184923
特開平3-068771

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