フォトマスク

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩佐義幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991330998
Publication number (International publication number)：1993165194
Application date： Dec. 16, 1991
Publication date： Jun. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】孤立パタンをパタンの一部として有するフォトマスクを投影露光する場合、転写パタンの解像度を向上させ、なおかつ作成が簡便なフォトマスクを提供する。【構成】第1の開口部の周辺部分に微細な第2の開口部を形成し、結像面上での第1の開口部に対応する位置において第1の開口部を透過した光と第2の開口部を透過した光とが光強度分布を鋭くするように干渉するようにする。

Claim (excerpt)：

透明基板上に遮光膜を設け、その遮光膜を部分的に除去して開口部を形成したフォトマスクにおいて、第1の開口部の周辺部分に微細な第2の開口部を形成し、結像面上での前記第1の開口部に対応する位置において前記第1の開口部を透過した光と上記第2の開口部を透過した光とが光強度分布を鋭くするように干渉することを特徴とするフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平3-210560
特開平4-096065
投影露光方法及び投影露光用光学マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-028296 Applicant：富士通株式会社

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