蛍光変換膜の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺喜平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997012276
Publication number (International publication number)：1998208879
Application date： Jan. 27, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】蛍光変換膜の蛍光性を失うことなく(変換効率を低下させることなく)、高精細な蛍光変換膜を製造することのできる方法を提供する。【解決手段】基板上に、発光体からの発光を、より長波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜の製造方法において、下記(I)〜(III)の段階を含むことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法。(I):基板1の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成する。(II):この基板凹部を埋め込むようにして、基板の全面に蛍光変換膜2を成膜する。(III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。

Claim (excerpt)：

基板上に、発光体からの発光を、より長波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜の製造方法において、下記(I)〜(III)の段階を含むことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法。(I):基板の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成する。(II):この基板凹部に埋め込むようにして、基板の全面に蛍光変換膜を成膜する。(III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。

IPC (2)：

H05B 33/10 , G09F 9/30 365

FI (2)：

H05B 33/10 , G09F 9/30 365 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平4-037248
特開平4-126390
特開昭59-035984

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