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J-GLOBAL ID：200903066814510529

排ガス中の腐食性物質の除去方法及び除去装置

Inventor：
蔵島 吉彦

About 蔵島 吉彦

, 
早川 一精

About 早川 一精

, 
半澤 茂

About 半澤 茂


Applicant, Patent owner：
日本碍子株式会社

About 日本碍子株式会社


Agent (1)： 渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003132975
Publication number (International publication number)：2004330160
Application date： May. 12, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】低コストで排ガス中の腐食性物質を効率的に除去、回収することができる排ガス中の腐食性物質の除去方法を提供する。【解決手段】腐食性物質を含有する排ガスG1を、腐食性物質と接触反応し得る所定の金属3を配設した空間2に導入し、排ガスG1中の腐食性物質と、所定の金属3とを、所定の金属の表面4上で、350°C以上の温度で接触反応させて、所定の金属の表面4上に、腐食性物質と所定の金属との反応生成物を含有する層(反応生成物層)6を形成させ、所定の金属の表面4から反応生成物層6の一部又は全部を脱離物として脱離させ、所定の金属3及び腐食性物質を、脱離物として回収して、腐食性物質を除去することを特徴とする排ガス中の腐食性物質の除去方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
腐食性物質を含有する排ガス中から前記腐食性物質を除去する排ガス中の腐食性物質の除去方法であって、 前記腐食性物質を含有する前記排ガスを、前記腐食性物質と接触反応し得る所定の金属を配設した空間に導入し、 前記排ガス中の前記腐食性物質と、前記所定の金属とを、前記所定の金属の表面上で、350°C以上の温度で接触反応させて、前記所定の金属の表面上に、前記腐食性物質と前記所定の金属との反応生成物を含有する層(反応生成物層)を形成させ、 前記所定の金属の表面から前記反応生成物層の一部又は全部を脱離物として脱離させ、 前記所定の金属及び前記腐食性物質を、前記脱離物として回収して、前記腐食性物質を除去することを特徴とする排ガス中の腐食性物質の除去方法。
IPC (2)：
B01D53/68 ,  B01J20/02
FI (2)：
B01D53/34 134C ,  B01J20/02 A
F-Term (30)：
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AA18 ,  4D002AA19 ,  4D002AA23 ,  4D002AB01 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002CA20 ,  4D002DA04 ,  4D002DA06 ,  4D002DA08 ,  4D002DA21 ,  4D002DA22 ,  4D002DA23 ,  4D002DA70 ,  4D002EA13 ,  4D002GA01 ,  4D002GB03 ,  4D002HA10 ,  4G066AA02B ,  4G066BA01 ,  4G066CA07 ,  4G066CA22 ,  4G066CA23 ,  4G066CA27 ,  4G066CA28 ,  4G066CA31 ,  4G066CA32 ,  4G066DA02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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