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J-GLOBAL ID:200903066884403622

分子量分布の狭いスチレン系共重合体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995241893
Publication number (International publication number):1997087309
Application date: Sep. 20, 1995
Publication date: Mar. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】各種成形体及びそれらへの添加剤、各種情報記録材、各種コーティング材などとして有用な分子量分布の狭いスチレン系共重合体を得ること。【解決手段】以下の要件を満足することを特徴とするスチレン系共重合体および安定なニトロオキサイド系ラジカル化合物とラジカル重合用開始剤とから得られる化合物存在下で、スチレンおよび他の不飽和単量体をラジカル重合して前記スチレン系共重合体を得る方法。(1) ゲルパーミェーションクロマトグラフ法(以下GPCという)により測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量が3000〜100000の範囲である。(2) GPCにより測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量/数平均分子量が1.1 〜1.3 の範囲である。(3) 共重合体中に、スチレン及びスチレン誘導体を30〜99モル%およびその他の不飽和単量体の中から選ばれる1種または2種以上を1〜70モル%含む。
Claim (excerpt):
以下の要件を満足することを特徴とするスチレン系共重合体。(1) ゲルパーミェーションクロマトグラフ法(以下GPCという)により測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量が3000〜100000の範囲である。(2) GPCにより測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量/数平均分子量が1.1 〜1.3 の範囲である。(3) 共重合体中に、スチレン及びスチレン誘導体を30〜99モル%およびその他の不飽和単量体の中から選ばれる1種または2種以上を1〜70モル%含む。
IPC (2):
C08F 2/38 MCN ,  C08F 12/06
FI (2):
C08F 2/38 MCN ,  C08F 12/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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