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J-GLOBAL ID:200903066914790170
ダイヤモンド被覆基板及び電極
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
酒井 正己
, 加々美 紀雄
, 小松 純
, 小松 秀岳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005345029
Publication number (International publication number):2007146255
Application date: Nov. 30, 2005
Publication date: Jun. 14, 2007
Summary:
【課題】電気化学的酸化処理中に基板自体が腐食する、又はダイヤモンド層と基板が剥離することにより電解が継続できなくなる、又は電気効率が著しく悪くなるという問題を解決する基板及び電極を提供する。【解決手段】基板および該基板に被覆した導電性ダイヤモンド層からなり、ダイヤモンド膜の連続している部分の最大面積が1μm2以上1000μm2以下であるダイヤモンド被覆基板である。特に基板の材質が、Nb、Al、Ta、Hf、Zr、Znであり、また導電性ダイヤモンド層が、硼素、リン、窒素のうち一つ以上を不純物として含み、導電性ダイヤモンド層が、1ppm〜100000ppmの範囲にある硼素を含有しても良い。【選択図】なし
Claim (excerpt):
基板および該基板に被覆した導電性ダイヤモンド層からなり、該ダイヤモンド層を構成するダイヤモンド膜の連続している部分の最大面積が1μm2以上1000μm2以下であることを特徴とするダイヤモンド被覆基板。
IPC (3):
C23C 16/27
, C30B 29/04
, C25B 11/06
FI (3):
C23C16/27
, C30B29/04 X
, C25B11/06 Z
F-Term (20):
4G077AA03
, 4G077AB01
, 4G077BA03
, 4G077DB19
, 4G077DB21
, 4G077EB01
, 4G077ED06
, 4G077HA05
, 4G077TA04
, 4K011AA21
, 4K011AA66
, 4K011DA11
, 4K030AA07
, 4K030AA10
, 4K030AA17
, 4K030BA27
, 4K030CA02
, 4K030FA01
, 4K030FA10
, 4K030LA11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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水処理方法及び水処理用装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-067878
Applicant:ペルメレック電極株式会社
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電気化学的処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-027251
Applicant:ペルメレック電極株式会社
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