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J-GLOBAL ID：200903057577970995

水処理方法及び水処理用装置

Inventor： 宇野 雅晴 ,  脇田 修平 ,  中松 秀司 ,  錦 善則
Applicant, Patent owner： ペルメレック電極株式会社
Agent (1)： 森 浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999067878
Publication number (International publication number)：2000254650
Application date： Mar. 15, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】 従来の過酸化水素による水処理では殺菌力が不十分であったり、アルカリ雰囲気下で過酸化水素が生成するため、不純物として含まれる金属イオンが金属水酸化物として陰極表面に析出して有効面積が減少したりする。【解決手段】 陰極6に酸素含有ガスを供給して過酸化水素を生成させ、かつ陽極5に酸溶液添加口4から無機酸を供給して次亜塩素酸等の酸化生成物を生成させて、前記両化合物により被処理液の処理を行う。これにより殺菌力が向上するとともに共存する酸化生成物の酸性により陰極表面近傍も中性から酸性に維持されて金属水酸化物の析出が抑制される。

Claim (excerpt)：

陰極に酸素含有ガスを供給しながら酸を含む被処理液に通電し、生成する過酸化水素及び酸化生成物により前記被処理液を電気化学的に処理することを特徴とする水処理方法。

IPC (15)：

C02F 1/46 ZAB ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/26 ,  C25B 1/30 ,  C25B 11/03 ,  C25B 11/06 ,  C25B 15/08 302

FI (16)：

C02F 1/46 ZAB Z ,  C02F 1/42 H ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 531 Q ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/76 A ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/26 C ,  C25B 1/30 ,  C25B 11/03 ,  C25B 11/06 Z ,  C25B 15/08 302

F-Term (66)：

4D025AA09 ,  4D025AB03 ,  4D025BA08 ,  4D025BA17 ,  4D025DA06 ,  4D050AA02 ,  4D050AA04 ,  4D050AA15 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BB06 ,  4D050BB09 ,  4D050BB13 ,  4D050BC10 ,  4D050BD04 ,  4D050BD08 ,  4D050CA08 ,  4D050CA10 ,  4D050CA13 ,  4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DA09 ,  4D061DB01 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061DC06 ,  4D061EA02 ,  4D061EB13 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB35 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED20 ,  4D061FA08 ,  4D061GC14 ,  4K011AA12 ,  4K011AA16 ,  4K011AA21 ,  4K011AA23 ,  4K011AA29 ,  4K011AA30 ,  4K011AA65 ,  4K011BA04 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K011DA05 ,  4K021AA01 ,  4K021AA09 ,  4K021AB07 ,  4K021AB15 ,  4K021BA02 ,  4K021BA05 ,  4K021BB03 ,  4K021BC09 ,  4K021CA01 ,  4K021CA09 ,  4K021DA13 ,  4K021DB12 ,  4K021DB16 ,  4K021DB18 ,  4K021DB19 ,  4K021DB31 ,  4K021DC07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 電解水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-118717   Applicant：松下冷機株式会社, 松下電器産業株式会社
• 殺菌水製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-319983   Applicant：株式会社オムコ, 新日本製鐵株式会社
• 殺菌水の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-233723   Applicant：三菱樹脂株式会社
• 海水電解装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-275974   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• 過酸化水素発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-034397   Applicant：三菱重工業株式会社
• 消毒水の製造供給装置および製造供給方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-194956   Applicant：株式会社タクマ
• 電解水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-089125   Applicant：松下冷機株式会社
• 弱酸性軟水の生成装置及び弱酸性軟水の生成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-298416   Applicant：東陶機器株式会社
• 電解水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-313567   Applicant：トキコ株式会社