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J-GLOBAL ID：200903067003096770

被膜の形成方法、該方法によって得られる被膜、反射防止膜及び光触媒膜

Inventor：
稲垣 正爾

About 稲垣 正爾

, 
岩下 勝行

About 岩下 勝行


Applicant, Patent owner：
大日本インキ化学工業株式会社

About 大日本インキ化学工業株式会社


Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002139958
Publication number (International publication number)：2003327911
Application date： May. 15, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ゾルゲル法を使用せずに、低温での硬化性に優れ、高温耐水性及び表面強度にも優れた無機被膜を提供すること。【解決手段】 (a)オルガノシラン類、アルミニウムアルコキシド類、チタンアルコキシド類、ジルコニウムアルコキシド類及びそれらの部分縮合物からなる群から選ばれる1種類以上の化合物、(b)アルミニウム錯体、チタン錯体及びジルコニウム錯体からなる群から選ばれる1種類以上の金属錯体、及び(c)有機溶媒を含有する組成物に、水を添加することなく、前記組成物を基材に塗布した後、前記有機溶媒を蒸発させる被膜の形成方法。
Claim (excerpt)：
(a)オルガノシラン類、アルミニウムアルコキシド類、チタンアルコキシド類、ジルコニウムアルコキシド類及びそれらの部分縮合物からなる群から選ばれる1種類以上の化合物、(b)アルミニウム錯体、チタン錯体及びジルコニウム錯体からなる群から選ばれる1種類以上の金属錯体、及び(c)有機溶媒を含有する組成物に、水を添加することなく、前記組成物を基材に塗布した後、前記有機溶媒を蒸発させることを特徴とする被膜の形成方法。
IPC (5)：
C09D183/04 ,  C09D183/02 ,  C09D185/00 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11
FI (5)：
C09D183/04 ,  C09D183/02 ,  C09D185/00 ,  G02B 1/10 Z ,  G02B 1/10 A
F-Term (24)：
2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  2K009EE02 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DM021 ,  4J038FA241 ,  4J038GA01 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038JA16 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038NA03 ,  4J038NA04 ,  4J038NA11 ,  4J038NA19 ,  4J038PA18
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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