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J-GLOBAL ID：200903067136959215

ヒドロキシスチレンエステル類の製造方法

Inventor： 河口 和雄 ,  岩永 伸一郎
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997144549
Publication number (International publication number)：1998316618
Application date： May. 20, 1997
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 レジスト用樹脂を含む各種の工業材料の中間原料として有用な高純度のヒドロキシスチレンエステル類を安価かつ高収率に製造する。【解決手段】 下記一般式(1)で表されるスチレン誘導体を、脂肪族カルボン酸の存在下で、モノカルボン酸無水物と反応させることを特徴とするヒドロキシスチレンエステル類の製造方法。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示し、R2 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、R2 が複数存在するとき相互に同一でも異なってもよく、R3 、R4 およびR5は相互に同一でも異なってもよく、炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは0〜4の整数である。〕

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるスチレン誘導体を、脂肪族カルボン酸の存在下で、モノカルボン酸無水物と反応させることを特徴とするヒドロキシスチレンエステル類の製造方法。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示し、R2 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、R2 が複数存在するとき相互に同一でも異なってもよく、R3 、R4 およびR5は相互に同一でも異なってもよく、炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは0〜4の整数である。〕

IPC (4)：

C07C 67/24 ,  B01J 31/04 ,  C07C 69/157 ,  C07B 61/00 300

FI (4)：

C07C 67/24 ,  B01J 31/04 X ,  C07C 69/157 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 有機芳香族化合物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-256272   Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
• 特開昭63-150245
  
• スチレン誘導体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-300493   Applicant：本州化学工業株式会社, 大阪市
• 特開平2-073076